1000kg 15us Vacuum Heat Treatment Furnace Gas Nitirding Industrial Heat Treat Oven

Wondery Customized Vacuum Gas Nitirding Furnace Heat Treat Overs

1.Karakteristik proses nitridasi ion:

Ion nitriding adalah proses perlakuan panas kimia.Dalam atmosfer nitrogen vakum rendah, dengan badan tungku sebagai anoda dan benda kerja diperlakukan sebagai katoda, tegangan DC ratusan volt diterapkan antara anoda dan katoda untuk membuat pelepasan cahaya nitridasi yang dihasilkan oleh proses.Ion nitriding memiliki banyak nama, seperti ion nitriding, glow discharge nitriding, ion bombardment nitriding, plasma nitriding, dll. Peralatan yang melakukan proses ion nitriding ini disebut plasma nitriding furnace, heat treatment nitriding furnace atau plasma ion nitriding furnace.

2. Apa karakteristik teknis dari ion nitriding?

2.1 Karakteristik unik dari teknologi nitridasi ion adalah pemboman ion, pembersihan sputtering dan aktivasi plasma.Aktivasi ion adalah jaminan mendasar untuk pembentukan lapisan nitridasi berkualitas tinggi, dan difusi aktivasi berjalan melalui seluruh proses nitridasi ion.Ion mengaktifkan dan menguraikan atom NH3, N2 dan H2 untuk menghasilkan ion aktif.Pada saat yang sama, aktivasi ion dari permukaan benda kerja menghasilkan sejumlah besar cacat mikro dan permukaan yang diaktifkan, yang bereaksi dengan permukaan yang diaktifkan untuk membentuk lapisan nitrida pada permukaan yang diaktifkan.Oleh karena itu, sangat penting untuk mengontrol dan menyesuaikan kondisi aktivasi ion.Sangatlah penting untuk mempelajari pemanasan bombardir, reaksi sputtering dan efek aktivasi pelepasan pijar untuk pengembangan dan peningkatan tungku nitridasi ion.

2.2 Kami mempelajari proses lapisan senyawa yang dibentuk oleh tungku nitridasi ion, dan menemukan bahwa struktur fasa lapisan senyawa yang dihasilkan oleh nitridasi ion dan nitridasi gas berbeda, karena mekanisme pembentukan lapisan senyawa berbeda.Lapisan senyawa nitridasi ion dari Baja 38CrMoAl terdiri dari fase, terutama fase, dengan sekitar 25 fase di permukaan, sedangkan lapisan senyawa nitridasi gas terdiri dari fase, dan permukaan tidak mengandung fase.Jika sampel diaktifkan dengan sputtering ion argon selama 4 jam sebelumnya, dan kemudian nitridasi ion dilakukan pada 5506 jam, fase permukaan berkurang dari 55 menjadi 45, fase permukaan meningkat dari 25 menjadi 42, dan fase berkurang dari 20 sampai 13. Dapat dilihat bahwa sampel yang diaktifkan oleh ion sputtering meningkatkan jumlah fase pada lapisan senyawa permukaan dan mengurangi pembentukan fase selama nitriding.

3. Parameter Teknis